特許
J-GLOBAL ID：200903083209846215
カラー表示装置とその製造方法およびカラー液晶装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴木 喜三郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-239865
公開番号（公開出願番号）：特開平10-135480
出願日： 1997年09月04日
公開日（公表日）： 1998年05月22日
要約：
【要約】【課題】 フォトリソグラフィー工程数を低減することで製造コストの低減および歩留まりの向上を実現し得るカラー表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】 透明基板710上にソース線705、ドレイン電極708となる線状遮光体701、701kを形成した後、開口部711に色素材702を定着させてカラーフィルターとする。次に、色素材を覆う透明保護膜723を成膜し、その上に多結晶シリコン薄膜717を形成する。そして、画素マトリックス外のソース線端子を覆うポリイミド膜を形成した後、ゲート絶縁膜719を成膜し、ポリイミド膜を除去する。次に、ゲート絶縁膜上にゲート線707を形成する。本方法におけるフォトリソグラフィー工程は、線状遮光体形成、多結晶シリコン薄膜形成、ゲート電極形成、の3工程のみとなる。
請求項（抜粋）：
透明基板上に形成された複数の線状遮光体と、これら複数の線状遮光体間の開口部に定着された色素材と、該色素材を覆う透明保護膜と、前記線状遮光体上に設けられた複数の薄膜トランジスタ、を有するカラー表示装置において、前記薄膜トランジスタが、ソース領域およびドレイン領域を有する半導体層と、ゲート絶縁膜と、前記ソース領域に接続されたソース線と、前記ドレイン領域に接続されたドレイン電極と、ゲート線を具備し、前記ゲート絶縁膜が、前記透明基板上の一部で取り除かれていることを特徴とするカラー表示装置。
IPC (3件)：
H01L 29/786
, H01L 21/336
, G02F 1/136 500
H01L 29/78 617 S
, G02F 1/136 500
, H01L 29/78 612 D
, H01L 29/78 612 Z
, H01L 29/78 616 V
, H01L 29/78 616 S
, H01L 29/78 626 C
