特許

J-GLOBAL ID：200903083210003841

プラズマクリーニング方法

発明者： 鈴木 直樹 ,  奥村 智洋 ,  田辺 浩
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 石原 勝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-126263
公開番号（公開出願番号）：特開平7-335617
出願日： 1994年06月08日
公開日（公表日）： 1995年12月22日
要約：

【要約】【目的】 高速でかつダスト発生が少ないプラズマクリーニング方法を提供する。【構成】 2つの前記電極間1、2の距離8を狭くして少なくとも一方の電極に1MHz以下の周波数の電力を印加してエッチングガスのプラズマを発生させてクリーニングを行う第1工程と、前記第1工程でプラズマの発光状態が大きく変化する以前に前記1MHz以下の電力の供給を停止し、電極に1MHz以上の周波数の電力のみを印加してエッチングガスのプラズマを発生させるクリーニングをプラズマの発光状態が大きく変化するまで行う第2工程と、2つの前記電極間の距離を広くして2つの前記電極に高周波電力を印加してエッチングガスのプラズマを発生させてクリーニングを行う第3工程とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

真空容器内に2つの電極を有し、高周波によりプラズマを発生させるプラズマCVD装置において、膜堆積工程終了後にエッチングガスのプラズマを利用して前記電極および前記真空容器内壁のクリーニングを行う際、2つの前記電極間の距離を狭くして少なくとも一方の電極に1MHz以下の周波数の電力を印加してエッチングガスのプラズマを発生させてクリーニングを行う第1工程と、前記第1工程でプラズマの発光状態が大きく変化する以前に電極に1MHz以上の周波数の電力のみを印加してエッチングガスのプラズマを発生させるクリーニングをプラズマの発光状態が大きく変化するまで行う第2工程と、2つの前記電極間の距離を広くして2つの前記電極に高周波電力を印加してエッチングガスのプラズマを発生させてクリーニングを行う第3工程とを有することを特徴とするプラズマクリーニング方法。

IPC (2件)：

H01L 21/3065 ,  H01L 21/205

FI (2件)：

H01L 21/302 N ,  H01L 21/302 C

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平1-100925
  
• 多ゾーン・プラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-152458   出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド
• 特開昭63-076434
  
• 特開昭63-221620