特許
J-GLOBAL ID:200903083218996220

高密度であって垂直方向に整列されたカーボンナノチューブの補助付きの選択的成長

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 山本 秀策 ,  安村 高明 ,  森下 夏樹
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-506704
公開番号(公開出願番号):特表2009-536912
出願日: 2007年04月16日
公開日(公表日): 2009年10月22日
要約:
薄い触媒層が堆積される支持層を選択し、熱触媒の化学気相堆積(CCVD)法を使用することによる、垂直方向に整列された、高密度のカーボンナノチューブ(CNT)の配列の選択的な成長。タンタル(Ta)の支持層上に堆積された薄い鉄(Fe)の触媒が、垂直方向の高密度のCNT配列のCCVD成長をもたらした。断面の透過型電子顕微鏡画像が、Ta上に成長させられたFeアイランド(支持層、触媒、およびそれらの界面の相対的名表面エネルギーによって制御される、アイランドに対する小さな接触角を有する)のVollmer-Weberモードを解明した。形成されたFeアイランドの形態は、触媒表面からのCNTの成長のもととなる炭素原子の表面拡散を促進した。
請求項(抜粋):
基板上にカーボンナノチューブを成長させる方法であって、 該基板上にタンタルの層を堆積させるステップと、 該タンタルの層上に鉄の触媒層を堆積させるステップと、 該鉄の触媒層からカーボンナノチューブを成長させるステップと を包含する、方法。
IPC (2件):
C01B 31/02 ,  B01J 23/745
FI (2件):
C01B31/02 101F ,  B01J23/74 301M
Fターム (25件):
4G146AA11 ,  4G146AB08 ,  4G146AC03B ,  4G146AC30B ,  4G146AD22 ,  4G146AD28 ,  4G146BB22 ,  4G146BB23 ,  4G146BC09 ,  4G146BC33B ,  4G146BC42 ,  4G146BC44 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169BA18 ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169CB81 ,  4G169DA06 ,  4G169EA08 ,  4G169EB15Y ,  4G169EC27 ,  4G169FB03
引用特許:
審査官引用 (3件)

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