特許
J-GLOBAL ID：200903083242706020
HF薬液中重金属除去フイルタの製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-248888
公開番号（公開出願番号）：特開平5-084402
出願日： 1991年09月27日
公開日（公表日）： 1993年04月06日
要約：
【要約】【目的】半導体製造工程の特にウェット処理工程(HF薬液エッチング工程)において、シリコンウェハ表面に吸着して半導体デバイスの不良の原因となる重金属イオンを事前に効率良く吸着除去する重金属イオン除去フイルタを提供する。【構成】重金属除去フィルタは、出来るだけ表面積を大きくするために、粒径の小さなSiの粒子8を充填したフィルタを、HF薬液循環系に設置することにより達成される。【効果】被洗浄物(シリコンウェハ)に比べて、フィルタに用いるシリコン粒子は、非常に表面積が大きく、効率良く重金属イオンを吸着除去できる。エッチング処理を行うシリコンウェハへの重金属イオン汚染が防止出来、半導体デバイスの不良が防げる。
請求項（抜粋）：
被洗浄物と同じ物質でフィルタを作成し、該フィルタを被洗浄物処理槽への薬液供給系の前段に設けて事前に除去する方法において、半導体製造工程のエッチング処理で用いるHF薬液中に溶け込んでいる有害物質(重金属イオンや異物等)をSiの粒子を充填したフィルタを、シリコンウェハ表面のエッチングを行うHF薬液循環系に設け、重金属イオンを除去した清浄なHF薬液を供給することを特徴とするHF薬液中重金属除去フィルタの製造方法。
IPC (5件)：
B01D 15/00
, B01D 24/02
, B01J 20/10
, B01J 29/04
, H01L 21/306
