特許
J-GLOBAL ID：200903083243356979
粉末材料又は気体材料を溶射するためのプラズマ溶射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
川口 義雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-035347
公開番号（公開出願番号）：特開平5-084455
出願日： 1992年02月21日
公開日（公表日）： 1993年04月06日
要約：
【要約】 (修正有)【目的】向上した効率を有し、諸部品の使用寿命が長く、更に基板被覆の品質が改善されるプラズマ溶射装置の提供。【構成】本装置は、長いプラズマトーチを作成する間接プラズマトロンを備えている。パウダーまたはガス材料は、プラズマトーチに軸方向に供給される。本プラズマトロンは、陰極アセンブリ1、陰極アセンブリから距離をおいて配置されている環状陽極部材3及び陰極アセンブリから陽極部材に伸びているプラズマチャネル4を備えている。プラズマチャネルは、環状陽極部材と複数の環状ニュートロード部材6〜12により範囲が限定され、陰極アセンブリの近くで直径の小さい区域を有する。陰極アセンブリは、プラズマチャネル入口ノズルに対し固定位置に配置された中央絶縁部材21を備え、さらに中央軸の回りの円の円周に沿って、且つ均一分散配置された。絶縁部材に嵌め込まれた複数の陰極要素も備えている。陰極要素の各々は活性端を有するピン20を含んでなる。
請求項（抜粋）：
粉末材料又は気体材料を溶射するためのプラズマ溶射装置であって、細長いプラズマトーチを発生させるのに適合した間接プラズマトロンと、粉末材料又は気体材料をプラズマトーチの中に軸方向に供給するための手段とを有し、前記プラズマトロンが、1つの陰極アセンブリと、前記陰極アセンブリから距離をとって配置された1つの環状陽極部材と、前記陰極アセンブリから前記陽極部材に延びる1つのプラズマチャネルとを有し、前記プラズマチャネルが、前記環状陽極部材と、互いに電気的に絶縁された複数の環状ニュートロードとによって範囲を限定されており、前記プラズマチャネルが、前記陰極アセンブリの近くの前記プラズマトーチ区域内に位置する、縮小された直径を有する領域を有し、且つそれによってプラズマチャネル入口ノズルを形成しており、更に前記陰極アセンブリが、前記プラズマチャネル入口ノズルに対して固定した位置に配置された中央絶縁部材を有し、且つ前記中央絶縁部材内に埋め込まれた複数の陰極要素をも有し、前記陰極要素が、前記装置の中心軸の周囲の円周に沿って均一に分散配置され、且つ前記装置の中心軸に対して平行に延びており、前記陰極要素の各々が、前記絶縁部材から外に延びて前記プラズマチャネル入口ノズルの中に延びる1つの陰極ピンを有し、前記陰極ピンが、プラズマトーチがその上で発生させられる活性端部を有し、このようにして前記粉末材料又は気体材料を前記プラズマトーチの中に軸方向に供給するための手段が、粉末又は気体の溶射材料を前記プラズマチャネル入口ノズルの中に送給するための供給チューブを有し、前記供給チューブが前記装置の中心軸と同軸に配置され、且つ前記中央絶縁部材内に固定されていることを特徴とするプラズマ溶射装置。
IPC (3件)：
B05B 7/22
, C23C 4/12
, H05H 1/34
