特許

J-GLOBAL ID：200903083244040002

高純度微細シリコン粒子の製造方法及び高純度微細シリコン粒子を用いた高純度多結晶シリコンの製造方法

発明者： 小松 善徳 ,  石井 正明 ,  高綱 和敏 ,  猿渡 康裕 ,  森川 育太郎 ,  石川 延宏 ,  ▲廣▼田 大助
出願人/特許権者： 東燃化学株式会社 ,  東亞合成化学工業株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-316348
公開番号（公開出願番号）：特開平6-144822
出願日： 1992年10月30日
公開日（公表日）： 1994年05月24日
要約：

【要約】【目的】金属不純物含有量が極めて少ない高純度シリコン微細粒子の簡便な製造方法を提供する。【構成】シリコン微細粒子を酸洗浄工程に付すことによって洗浄し高純度シリコン微細粒子を製造する方法において、該酸洗浄工程が、フッ化水素酸と硝酸を同時に用いる洗浄工程を含むことを特徴とする高純度微細シリコン粒子の製造方法。

請求項（抜粋）：

シリコン微細粒子を酸洗浄工程に付すことによって洗浄して高純度シリコン微細粒子を製造する方法において、該酸洗浄工程が、フッ化水素酸と硝酸を同時に用いる洗浄工程を含むことを特徴とする高純度微細シリコン粒子の製造方法。