特許
J-GLOBAL ID:200903083246738376

排ガス除害装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 野田 茂
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-064519
公開番号(公開出願番号):特開2002-270583
出願日: 2001年03月08日
公開日(公表日): 2002年09月20日
要約:
【要約】【課題】 ドライエッチング装置などの排気を効率よく行う。【解決手段】 ドライエッチング装置102では、ドライエッチング終了後、ドライポンプ112による反応チャンバー106の真空引きが行われ、真空圧力計108は、圧力が基準値を下回ったとき計測開始指令信号18を出力する。これにより排出量監視手段8は排出量検出手段6を起動し、排出量検出手段6はガス流量計4による計測結果を受け取り流量を積算してガス総排出量を検出し、結果を排出量監視手段8に通知する。排出量監視手段8は、このガス総排出量が基準値に到達したとき排出量到達信号20をドライエッチング装置102に出力する。これによりドライポンプ112が停止され、反応チャンバー106の真空引き作業が終了する。
請求項(抜粋):
半導体製造装置が排出するガスを無害化する排ガス除害装置であって、前記半導体製造装置から排出された前記ガスの流量を計測する流量計と、前記流量計が計測した前記ガスの流量にもとづいて前記ガスの総排出量を検出する排出量検出手段と、前記半導体製造装置から計測開始指令を受け取った後、前記排出量検出手段が検出した前記ガスの総排出量が基準値に到達したとき排出量到達信号を出力する排出量監視手段とを備えたことを特徴とする排ガス除害装置。
IPC (3件):
H01L 21/3065 ,  B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/46
FI (3件):
H01L 21/302 B ,  B01D 53/34 ZAB Z ,  B01D 53/34 120 A
Fターム (8件):
4D002AA40 ,  4D002AC10 ,  4D002GA02 ,  4D002GB01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA00 ,  5F004BC08 ,  5F004CB03

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