特許
J-GLOBAL ID：200903083264276380
反射防止膜形成用組成物および反射防止膜
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岩見谷 周志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-082754
公開番号（公開出願番号）：特開平11-258813
出願日： 1998年03月13日
公開日（公表日）： 1999年09月24日
要約：
【要約】【課題】 反射防止効果が高く、インターミキシングを起こすことなく、解像度および精度に優れるレジストパタ-ンを、簡便な回転塗膜法を用いて形成できる反射防止膜形成用組成物を提供することにある。【解決手段】 (A)ポリチタノキサンおよび(B)溶剤を含有してなる反射防止膜形成用組成物。
請求項（抜粋）：
(A)ポリチタノキサンおよび(B)溶剤を含有することを特徴とする反射防止膜形成用組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/11 503
, C08K 5/07
, C08L 83/04
, C08L 85/00
, H01L 21/027
G03F 7/11 503
, C08K 5/07
, C08L 83/04
, C08L 85/00
, H01L 21/30 574
