特許

J-GLOBAL ID：200903083265325848

放射線像変換パネルの製造方法

発明者： ▲錬▼石 恵子
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 中島 淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-358292
公開番号（公開出願番号）：特開2001-174594
出願日： 1999年12月17日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：

【要約】【課題】 表面の粒状性および均一性が良好で、高画質な画像を与え得る放射線像変換パネルの製造方法を提供することにあり、特に中性子画像形成方法に用いる放射線像変換パネルの作製において適した製造方法を提供することにある。【解決手段】 少なくとも蛍光体および結合剤からなる蛍光体層構成成分を、溶剤に分散および溶解して蛍光体層塗布液を調製する蛍光体層塗布液調製工程と、支持体表面に、前記蛍光体層塗布液からなる蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程と、を含む放射線像変換パネルの製造方法であって、前記蛍光体層塗布液調製工程が、分散および溶解後に得られる蛍光体層塗布液の粘度が1〜10Pa・sとなる量の溶剤を、蛍光体層構成成分に対して添加した後分散および溶解する工程であることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法である。

請求項（抜粋）：

少なくとも蛍光体および結合剤からなる蛍光体層構成成分を、溶剤に分散および溶解して蛍光体層塗布液を調製する蛍光体層塗布液調製工程と、支持体表面に、前記蛍光体層塗布液からなる蛍光体層を形成する蛍光体層形成工程と、を含む放射線像変換パネルの製造方法であって、前記蛍光体層塗布液調製工程が、分散および溶解後に得られる蛍光体層塗布液の粘度が1〜10Pa・sとなる量の溶剤を、蛍光体層構成成分に対して添加した後分散および溶解する工程であることを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。

IPC (4件)：

G21K 4/00 ,  C09D 5/22 ,  C09D 7/12 ,  C09D201/00

FI (4件)：

G21K 4/00 L ,  C09D 5/22 ,  C09D 7/12 Z ,  C09D201/00

Fターム (34件)：

2G083AA03 ,  2G083BB01 ,  2G083CC02 ,  2G083DD06 ,  2G083DD20 ,  2G083EE02 ,  4J038BA021 ,  4J038BA161 ,  4J038BA181 ,  4J038BA221 ,  4J038CD041 ,  4J038CD061 ,  4J038CD081 ,  4J038CE021 ,  4J038CE071 ,  4J038CF021 ,  4J038CF041 ,  4J038CG141 ,  4J038DB001 ,  4J038DD001 ,  4J038DG001 ,  4J038EA011 ,  4J038HA116 ,  4J038HA216 ,  4J038HA276 ,  4J038JC38 ,  4J038KA06 ,  4J038KA08 ,  4J038KA12 ,  4J038KA20 ,  4J038MA09 ,  4J038MA15 ,  4J038NA18 ,  4J038NA19