特許
J-GLOBAL ID：200903083272026660
バンドパスフィルタ及びその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
後藤 洋介 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-138657
公開番号（公開出願番号）：特開平11-330885
出願日： 1998年05月20日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：
【要約】【課題】 薄膜インダクタを用いた小型で軽量且つ低背な占有面積の小さい特性の優れたバンドパスフィルタを提供することにある。【解決手段】 このデスクリート薄膜バンドパスフィルタは、対向する一辺の端部に4個のスルーホール5が設けられると共に、スルーホール5周辺の4箇所の電極6及び中央周辺部の12個の導体電極4を含む導体パターンが設けられた台座となるセラミックス基板3上に薄膜キャパシタを12個集合させて形成された薄膜キャパシタアレー2上に磁芯を有する薄膜インダクタを6個集合させて形成された薄膜インダクタアレー1を配備してモノシリック薄膜構造を成している。ここでのフィルタは、既存のデバイスに要する接合技術とは関係無く構成され、実装設備や実装工程が不要になり、顕著な低背化が計られて小型で軽量であると共に、占有面積の小さい特性の優れたものとして低コストで作製できる。
請求項（抜粋）：
台座となる基板上に薄膜キャパシタを幾つか集合させて形成された薄膜キャパシタアレー上に磁芯を有する薄膜インダクタを幾つか集合させて形成された薄膜インダクタアレーが配備されて成るモノシリック薄膜構造を有することを特徴とするバンドパスフィルタ。
IPC (4件)：
H03H 7/01
, H01F 27/00
, H01G 4/40
, H03H 3/007
H03H 7/01 A
, H03H 3/007 D
, H01F 15/00 D
, H01G 4/40 321 A
