特許
J-GLOBAL ID：200903083285404507
超純水製造装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-070511
公開番号（公開出願番号）：特開平9-253638
出願日： 1996年03月26日
公開日（公表日）： 1997年09月30日
要約：
【要約】【課題】 微量の有機物を含む被処理水の有機物を、2次純水製造ラインにおけるイオン交換装置の負荷を増大させたり、微粒子数を増大させたりせずに、運転コストを安く、ほぼ完全に除去することを可能とした超純水製造装置を提供すること。【解決手段】 1次純水をカチオン交換した後、含有された有機物を分解するために非処理水に紫外線を照射して膜脱気を行い、前記非処理水中に含まれた二酸化炭素等の溶存気体を除去する。次いで、二酸化炭素等の溶存気体が除去された被処理水に対してイオン交換を行うことにより、処理水中に含まれた溶存イオンを除去する。
請求項（抜粋）：
微量の有機物を含む被処理水に紫外線を照射して前記有機物を分解する手段と、有機物の分解された被処理水を膜脱気して発生したガス成分を除去する手段と、膜脱気後の被処理水からイオン成分を除去する手段とを、被処理水の流路に沿って順に設けてなることを特徴とする超純水製造装置。
IPC (4件)：
C02F 1/32
, C02F 1/20
, C02F 1/42
, C02F 1/44
C02F 1/32
, C02F 1/20 A
, C02F 1/42 A
, C02F 1/44 J
