特許

J-GLOBAL ID：200903083287525549

基板洗浄装置及び基板洗浄方法

発明者： 安部 宣利
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 田辺 恵基
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-288045
公開番号（公開出願番号）：特開平9-106065
出願日： 1995年10月09日
公開日（公表日）： 1997年04月22日
要約：

【要約】【課題】本発明は、基板洗浄装置及び基板洗浄方法において、超微細パターンルールでパターンが形成された透明基板の洗浄後の異物を0にして信頼性を確保し得るようにする。【解決手段】散乱光に基づいて検査することに加えて、透明基板(R)表面を透過光に基づいて検査して、透明基板(R)表面上の微少サイズの低段差異物(313)を確実に検出する。

請求項（抜粋）：

平面形状の遮光パターンが所定面上に形成された透明基板を搬送する搬送手段と、前記透明基板が前記搬送手段で搬送され、洗浄液で湿潤した当該透明基板の表面を擦つて該表面上に付着した異物を除去する異物除去手段が設けられた洗浄槽と、洗浄した前記透明基板を光束で走査し、該透明基板から生じる散乱光に基づいて該透明基板表面を検査する第1の検査手段とを有する基板洗浄装置において、洗浄した前記透明基板を照明し、該透明基板を透過した透過光に基づいて該透明基板表面を検査する第2の検査手段を具えることを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (7件)：

G03F 1/08 ,  B01J 19/00 ,  B08B 3/12 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341 ,  H01L 21/66

FI (7件)：

G03F 1/08 X ,  B01J 19/00 D ,  B08B 3/12 A ,  G01N 21/88 E ,  H01L 21/304 341 Z ,  H01L 21/66 J ,  H01L 21/30 503 G