特許

J-GLOBAL ID：200903083292812718

脱リン装置

発明者： 近藤 久幸 ,  西田 政司 ,  砥上 靖孝 ,  堀口 忠雄
出願人/特許権者： 福岡市 ,  栗田工業株式会社
代理人 (1件)： 佐田 守雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-281565
公開番号（公開出願番号）：特開平11-151500
出願日： 1986年09月26日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】【課題】 リン成分を、リン酸アンモニウムマグネシウムとして沈降分離し、実質的なリンの除去を達成する装置を提供する。【解決手段】 リン含有水をマグネシウムイオンおよびアンモニウムイオンの存在下に気曝処理してリン酸アンモニウムマグネシウムの結晶を生成する気曝槽であって、該気曝槽に設けられたリン含有水の供給口と、マグネシウム塩の添加手段と、上端に設けられたリン除去水の排出手段と、結晶を流動層として形成するために底部付近に設けられた空気噴出手段と、空気噴出手段の下方に設けられた成長して大きくなった結晶の取出口とを設けたことを特徴とする脱リン装置。

請求項（抜粋）：

リン含有水をマグネシウムイオンおよびアンモニウムイオンの存在下に気曝処理してリン酸アンモニウムマグネシウムの結晶を生成する気曝槽であって、該気曝槽に設けられたリン含有水の供給口と、マグネシウム塩の添加手段と、上端に設けられたリン除去水の排出手段と、結晶を流動層として形成するために底部付近に設けられた空気噴出手段と、空気噴出手段の下方に設けられた成長して大きくなった結晶の取出口とを設けたことを特徴とする脱リン装置。

IPC (3件)：

C02F 11/00 ZAB ,  C02F 3/30 ZAB ,  C02F 11/04 ZAB

FI (3件)：

C02F 11/00 ZAB J ,  C02F 3/30 ZAB C ,  C02F 11/04 ZAB Z

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特公平7-077640
  
• 特開平1-119392
  
• 特開昭63-084696