特許

J-GLOBAL ID：200903083298133081

スピン洗浄処理装置

発明者： 広瀬 治道
出願人/特許権者： 株式会社芝浦製作所
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-135149
公開番号（公開出願番号）：特開平9-321011
出願日： 1996年05月29日
公開日（公表日）： 1997年12月12日
要約：

【要約】【課題】 この発明は半導体ウエハのサイズ変更時に回転テ-ブルを容易に孔か案できるようにしたスピン洗浄処理装置を提供することにある。【解決手段】 固定軸33と、この固定軸を内部に収容するとともにこの固定軸に対して回転自在に設けられた筒状の回転軸3と、この回転軸を回転駆動するステップモ-タ6と、中心部に通孔25が形成されこの通孔の周辺部が上記回転軸の上部にねじ9aによって着脱自在に取り付けられるとともに上面側に半導体ウエハ21が保持される回転テ-ブル9と、上記半導体ウエハの下面に洗浄液を噴射するノズル孔27を有し上記回転テ-ブルの通孔よりも小径に形成されて上記固定軸の上部に取り付けられた中心部26aおよびこの中心部の外周に着脱自在に螺合され外径寸法が上記通孔よりも大径に形成され上記ねじを覆う傘部26bとからなるノズル体26とを具備したことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

回転されるワ-クに洗浄液を噴射してこのワ-クを洗浄するスピン洗浄処理装置において、固定軸と、この固定軸を内部に収容するとともにこの固定軸に対して回転自在に設けられた筒状の回転軸と、この回転軸を回転駆動する駆動手段と、中心部に通孔が形成されこの通孔の周辺部が上記回転軸の上部にねじによって着脱自在に取り付けられるとともに上面側に上記ワ-クが保持される回転テ-ブルと、上記ワ-クの下面に洗浄液を噴射するノズル孔を有し上記回転テ-ブルの通孔よりも小径に形成されて上記固定軸の上部に取り付けられた中心部およびこの中心部の外周に着脱自在に螺合され外径寸法が上記通孔よりも大径に形成され上記ねじを覆う傘部とからなるノズル体とを具備したことを特徴とするスピン洗浄処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02

FI (3件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 S ,  B08B 3/02 B