特許
J-GLOBAL ID：200903083303613305
投影露光装置及びパターン位置計測方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
森岡 正樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-094828
公開番号（公開出願番号）：特開平10-275763
出願日： 1997年03月28日
公開日（公表日）： 1998年10月13日
要約：
【要約】【課題】本発明は、感光基板上に微細パターンを投影転写する投影露光装置及びパターン位置計測方法に関し、受光系において受光光量に対する出力信号のリニアリティが確保できないような弱い光強度の空間像が入力されても、測定精度を低下させずに空間像の位置の測定ができる投影露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】レチクルR上に形成されたレチクルパターンRPを照明する照明光学系3と、パターンRPを投影する投影光学系1の投影面内でウェハWを載置して2次元的に移動可能なウェハステージ7上に設けられ、投影光学系1により形成されたパターンRPの空間像を走査する開口81が形成された開口部8と、開口81を通過した光の強度を検出する光検出器9と、空間像の走査に先だって光検出器9に所定の一定光強度を有する光を供給するオフセット光源OL及びファイバFとを備えるように構成する。
請求項（抜粋）：
レチクル上に形成されたパターンを照明する照明光学系と、前記パターンを投影する投影光学系と、前記投影光学系の投影面内で基板を載置して2次元的に移動可能な基板ステージと、前記基板ステージ上に設けられ、前記投影光学系により形成された前記パターンの空間像を走査する開口が形成された開口部と、前記開口を通過した光の強度を検出する光検出器と、前記開口による前記空間像の走査に先だって、前記光検出器に所定の一定光強度を有する光を供給する光供給手段とを備えたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 526 A
, G03F 7/207 H
