特許
J-GLOBAL ID：200903083308831360

印刷マスク及び印刷マスクの製造方法

発明者：
木下 真言

木下 真言 について


出願人/特許権者：
リコーマイクロエレクトロニクス株式会社

リコーマイクロエレクトロニクス株式会社 について


代理人 (1件)： 黒田 壽
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-342491
公開番号（公開出願番号）：特開2000-168256
出願日： 1998年12月02日
公開日（公表日）： 2000年06月20日
要約：
【要約】【課題】 シート状のプラスチック材を枠体に張架固定した状態で貫通孔又は凹部からなる印刷パターンを形成する場合等においても印刷パターンの加工位置精度の低下を防止することができる印刷マスク及び印刷マスクの製造方法を提供する。【解決手段】 シート状のプラスチック材1の表面に面方向の剛性を高めるための補強層を形成した後、該補強層を有するプラスチック材1に貫通孔又は凹部からなる印刷パターンを形成する。例えば、上記補強層としてプラスチック材1の一方の面に金属層2を形成し、レーザー光によるアブレーション加工でプラスチック材1の他方の面から印刷パターンに対応する孔1aを形成する。プラスチック材1の孔1aを通して金属層2を選択的にエッチングして、貫通孔1a,2aを形成してもよい。
請求項（抜粋）：
シート状のプラスチック材に貫通孔又は凹部からなる印刷パターンが形成された印刷マスクであって、該プラスチック材の表面に面方向の剛性を高めるための補強層を有することを特徴とする印刷マスク。
IPC (4件)：
B41N 1/24 ,  B41C 1/055 511 ,  H05K 3/12 610 ,  H05K 3/34 505
FI (4件)：
B41N 1/24 ,  B41C 1/055 511 ,  H05K 3/12 610 P ,  H05K 3/34 505 D
Fターム (26件)：
2H084AA14 ,  2H084AA30 ,  2H084BB02 ,  2H084BB04 ,  2H084BB07 ,  2H084BB13 ,  2H084CC10 ,  2H084CF00 ,  2H114AB09 ,  2H114AB12 ,  2H114AB15 ,  2H114AB17 ,  2H114BA02 ,  2H114DA04 ,  2H114DA56 ,  2H114DA73 ,  2H114EA01 ,  2H114EA03 ,  2H114EA04 ,  2H114GA11 ,  5E319BB05 ,  5E319CD29 ,  5E343DD03 ,  5E343EE23 ,  5E343FF04 ,  5E343GG08
引用特許：
審査官引用 (7件)
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