特許

J-GLOBAL ID：200903083312191812

露光方法、露光装置、およびデバイス製造方法

発明者： 川島 美代子
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 長尾 達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-050623
公開番号（公開出願番号）：特開2001-319874
出願日： 2001年02月26日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：

【要約】【課題】多重露光において良好な解像を得ることが可能となり、特に、焦点深度を、解像を目的とするパターンと必要深度に対応して拡大することができ、また、k1ファクターの小さいプロセスにおいても、収差の像性能への影響を軽減することが可能となり、良好な解像を得ることができる露光方法、露光装置、およびデバイス製造方法を提供する。【解決手段】投影光学系を用い、第1パターンの露光と第2パターンの露光を含む多重露光を行って、所望のパータンを露光する露光方法において、前記第1パターンの露光の時の前記投影光学系の開口数(NA1)と前記第2パターンの露光時の前記投影光学系の開口数(NA2)が互いに異なるように構成する。

請求項（抜粋）：

投影光学系を用い、第1パターンの露光と第2パターンの露光を含む多重露光を行って、所望のパータンを露光する露光方法において、前記第1パターンの露光の時の前記投影光学系の開口数(NA1)と前記第2パターンの露光時の前記投影光学系の開口数(NA2)が互いに異なることを特徴とする露光方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/22

FI (4件)：

G03F 7/22 H ,  H01L 21/30 514 A ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 D

Fターム (16件)：

5F046AA13 ,  5F046AA25 ,  5F046CA04 ,  5F046CB05 ,  5F046CB12 ,  5F046CB13 ,  5F046CB17 ,  5F046CB23 ,  5F046CB25 ,  5F046DA01 ,  5F046DA02 ,  5F046DA11 ,  5F046DA13 ,  5F046DA14 ,  5F046DD04 ,  5F046DD06