特許

J-GLOBAL ID：200903083322102206

化学増幅型レジスト溶液

発明者： 大田 利幸 ,  田辺 隆喜 ,  辻 昭
出願人/特許権者： 日本合成ゴム株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-335607
公開番号（公開出願番号）：特開平8-179500
出願日： 1994年12月21日
公開日（公表日）： 1996年07月12日
要約：

【要約】【構成】 プロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネートを含有する溶剤の溶液であることを特徴とする化学増幅型レジスト溶液。【効果】 感度及び解像度等に優れるレジスト被膜を与える。特に大口径化された基板へスピンコート法により塗布して得られるレジスト被膜は、塗布むら、曇りが実質的になくその表面は平滑である。また、微細加工を安定的に行なうことができ、保存安定性に優れ、良好なパターン形状を与える。さらに、本発明の化学増幅型レジスト溶液は、i線等の紫外線、エキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線等の荷電粒子線等の放射線のいずれにも対応でき、今後さらに微細化が進行すると予想される集積回路製造用の化学増幅型レジスト被膜を形成するための溶液として有利に使用できる。

請求項（抜粋）：

溶剤の成分としてプロピレングリコールアルキルエーテルプロピオネートを含有する溶剤の溶液であることを特徴とする化学増幅型レジスト溶液。