有機膜のエッチング方法及び素子の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山下穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-108725
公開番号（公開出願番号）：特開2001-358218
出願日： 2001年04月06日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：

【要約】【課題】所望の形状を得るためのエッチングを高速にでき、ハードマスクに対する選択比の高い有機膜のエッチング方法及び素子の製造方法を提供することにある。【解決手段】有機膜上に中間層及びパターニングされたレジスト層を形成し、該レジスト層から露出した該中間層をエッチングした後、ガスのプラズマを用いて前記有機膜をエッチングする有機膜のエッチング方法において、該中間層が金属又は金属の化合物からなる層を含むことを特徴とする有機膜のエッチング方法及び該エッチング方法を用いる素子の製造方法。

請求項（抜粋）：

有機膜上に中間層及びパターニングされたレジスト層を形成し、該レジスト層から露出した該中間層をエッチングした後、ガスのプラズマを用いて前記有機膜をエッチングする有機膜のエッチング方法において、該中間層が金属又は金属の化合物からなる層を含むことを特徴とする有機膜のエッチング方法。

IPC (3件)：

H01L 21/768 , H01L 21/28 , H01L 21/3065

FI (3件)：

H01L 21/28 L , H01L 21/90 A , H01L 21/302 H

Fターム (114件)：

4M104BB02 , 4M104BB14 , 4M104BB17 , 4M104BB25 , 4M104BB27 , 4M104BB30 , 4M104BB32 , 4M104BB33 , 4M104CC01 , 4M104DD08 , 4M104DD16 , 4M104DD17 , 4M104DD20 , 4M104DD22 , 4M104DD37 , 4M104DD43 , 4M104DD52 , 4M104DD53 , 4M104DD65 , 4M104DD71 , 4M104DD72 , 4M104DD75 , 4M104EE08 , 4M104EE12 , 4M104EE14 , 4M104EE18 , 4M104FF13 , 4M104FF17 , 4M104FF18 , 4M104FF22 , 4M104HH14 , 5F004CA06 , 5F004DA03 , 5F004DA04 , 5F004DA11 , 5F004DA24 , 5F004DA25 , 5F004DB08 , 5F004DB09 , 5F004DB10 , 5F004DB12 , 5F004DB23 , 5F004EA03 , 5F004EA05 , 5F004EA06 , 5F004EA23 , 5F004EA28 , 5F004EB01 , 5F004EB03 , 5F033HH08 , 5F033HH09 , 5F033HH11 , 5F033HH12 , 5F033HH18 , 5F033HH19 , 5F033HH21 , 5F033HH27 , 5F033HH32 , 5F033HH33 , 5F033HH34 , 5F033JJ01 , 5F033JJ08 , 5F033JJ09 , 5F033JJ11 , 5F033JJ12 , 5F033JJ19 , 5F033JJ27 , 5F033JJ30 , 5F033JJ32 , 5F033JJ33 , 5F033JJ34 , 5F033KK08 , 5F033KK11 , 5F033KK33 , 5F033MM01 , 5F033MM02 , 5F033MM05 , 5F033MM12 , 5F033MM13 , 5F033NN06 , 5F033NN07 , 5F033PP06 , 5F033PP15 , 5F033PP19 , 5F033PP27 , 5F033PP28 , 5F033QQ08 , 5F033QQ09 , 5F033QQ10 , 5F033QQ11 , 5F033QQ12 , 5F033QQ20 , 5F033QQ25 , 5F033QQ27 , 5F033QQ28 , 5F033QQ30 , 5F033QQ31 , 5F033QQ37 , 5F033QQ48 , 5F033QQ49 , 5F033QQ98 , 5F033RR01 , 5F033RR04 , 5F033RR06 , 5F033RR09 , 5F033RR11 , 5F033RR21 , 5F033RR24 , 5F033SS11 , 5F033SS15 , 5F033SS21 , 5F033TT04 , 5F033XX03 , 5F033XX24

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