特許
J-GLOBAL ID:200903083353143830

パターン検査方法及びパターン検査装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 中川 周吉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-168515
公開番号(公開出願番号):特開平11-014323
出願日: 1997年06月25日
公開日(公表日): 1999年01月22日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、比較的簡単な構成により、異種金属からなる素子や回路パターンの検査を可能にしたパターン検査方法及びパターン検査装置を提供することを可能にすることを目的としている。【解決手段】 複数の各素子或いは回路パターン濃度分布の相隣接分布に対し過近接を避けるべくウェハー5上のIC素子5aの画像を撮影したカラーカメラ7からのカラービデオ信号ER ,EG ,EB を輝度調整演算器15により各輝度調整を行って白黒濃淡画像ビデオ信号EY に変換した後、画像処理プロセッサ16により各素子或いは回路パターンを分離して白黒濃淡画像に変換すると共に、該白黒濃淡画像を画像処理して欠陥部18の有無を判定するように構成したことを特徴とする。
請求項(抜粋):
異なる複数の素材からなる複数の素子或いは回路パターンが略同一面にある素子或いは回路面に光を当て、その反射光をカラーカメラで撮影し、画像処理により各パターンを検査するパターン検査方法において、前記複数の素子或いは回路パターンを形成する各素材に対応する濃度分布により素子或いは回路パターンを分離して画像処理するに当たり、先ず、複数の各素子或いは回路パターン濃度分布の相隣接分布に対し過近接を避けるべく前記カラーカメラで撮影したカラービデオ信号に対して赤、緑、青成分の各輝度調整を行った後、各素子或いは回路パターンを分離して白黒濃淡画像に変換し、該白黒濃淡画像を画像処理して判定することを特徴とするパターン検査方法。
IPC (4件):
G01B 11/24 ,  G06T 7/00 ,  H01L 21/66 ,  G01N 21/88
FI (4件):
G01B 11/24 F ,  H01L 21/66 J ,  G01N 21/88 E ,  G06F 15/62 400

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