特許
J-GLOBAL ID:200903083362012587

硬質カ-ボン膜の形成方法とその被覆部品

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平5-318386
公開番号(公開出願番号):特開平7-173631
出願日: 1993年12月17日
公開日(公表日): 1995年07月11日
要約:
【要約】【目的】低温処理で、基材と硬質カ-ボン膜間の密着強度が大幅に改善される処理方法の提案と、それを用いた硬質カ-ボン膜被覆部品を提供すること。【構成】シリコンを含んだガス雰囲気中で金属基材表面上にエキシマレ-ザ-を照射することにより金属基材表層内部にシリコン拡散層を、金属基材表層上にシリコン堆積層を形成した後、炭化水素ガス雰囲気中での気相合成法にて硬質カ-ボン膜を形成する。【効果】基材自身に何ら熱的影響を与えることなく、基材の必要な部分のみに硬質カ-ボン膜を密着良く形成できる。
請求項(抜粋):
シリコンを含有するガス雰囲気中に配置された金属基材の表面上にエキシマレ-ザ-光を照射することにより、前記金属基材の表層にシリコン元素を拡散・堆積させた後、炭化水素系ガス雰囲気中の気相合成法により前記金属基材の表層上に硬質カ-ボン膜を積層堆積させることを特徴とする硬質カ-ボン膜の形成方法。
IPC (6件):
C23C 16/26 ,  C23C 10/08 ,  C23C 16/02 ,  C23C 16/50 ,  C23C 28/02 ,  D03D 49/62
引用特許:
審査官引用 (4件)
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