特許

J-GLOBAL ID：200903083365902079

ピリジニウム錯体およびその用途

発明者： 鳥羽 泰正 ,  鹿野 美紀
出願人/特許権者： 東洋インキ製造株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-217637
公開番号（公開出願番号）：特開平7-070068
出願日： 1993年09月01日
公開日（公表日）： 1995年03月14日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】光および/または熱エネルギーを用いて、ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物を有効かつ高感度に重合せしめる新規なピリジニウム錯体を提供する。【構成】下記式で表されるピリジニウム錯体および重合触媒。(式中、R1は置換基を有してもよいベンジル基もしくは置換基を有してもよいフェナシル基、R2,R3,R4,R5,およびR6は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、カルボキシ基、アルコキシカルボキシ基、アセチル基、カルバモイル基、置換基を有してもよいアリール基より選ばれる基、R7は置換基を有してもよいアルキル基もしくは置換基を有してもよいベンジル基、R8,R9およびR10は置換基を有してもよいアリール基を示す。)

請求項（抜粋）：

一般式(1)で表されるピリジニウム錯体。一般式(1)【化1】(ただしR1は、置換基を有してもよいベンジル基もしくは置換基を有してもよいフェナシル基を、R2、R3、R4、R5およびR6はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、置換基を有してもよいアルキル基、カルボキシ基、アルコキシカルボキシ基、アセチル基、カルバモイル基、置換基を有してもよいアリール基より選ばれる基を、R7は置換基を有してもよいアルキル基もしくは置換基を有してもよいベンジル基を、R8、R9およびR10はそれぞれ独立に、置換基を有してもよいアリール基を示す。)

IPC (6件)：

C07D213/20 ,  C07D213/50 ,  C07D213/68 ,  C07D213/80 ,  C07D213/84 ,  C08F 4/00 MFJ