特許
J-GLOBAL ID：200903083390987712
処理装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-076174
公開番号（公開出願番号）：特開平6-267933
出願日： 1993年03月10日
公開日（公表日）： 1994年09月22日
要約：
【要約】【目的】 露点温度の低い乾燥気体を用いることにより自然酸化膜の発生を抑制することができる処理装置を提供する。【構成】 被処理体Wを処理する処理容器6の下方に待機空間26を設け、この空間に被処理体を載置して昇降可能に被処理体載置台24を配置した処理装置において、上記待機空間に被処理体の表面に形成される自然酸化膜を抑制するための自然酸化膜抑制気体を供給する自然酸化膜抑制気体供給系52を設け、これより低い露点温度を有する乾燥気体Aを上記抑制気体として供給する。
請求項（抜粋）：
被処理体を処理する処理容器と、前記被処理体を載置して前記処理容器の下方より昇降可能に設けられた被処理体載置台と、この被処理体載置台を待機させる待機空間と、この待機空間に前記被処理体に形成される自然酸化膜を抑制するための自然酸化膜抑制気体を供給するための自然酸化膜抑制気体供給系を有する処理装置において、前記自然酸化膜抑制気体は低い露点温度を有する乾燥気体であることを特徴とする処理装置。
IPC (2件)：
引用特許：
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