基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：川崎実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-156312
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352448
出願日： 1998年06月04日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】特別な構成を付加することなく、基板に供給される処理液の温度を所望の値に維持できる基板処理装置を提供する。【解決手段】基板Sは、搬送ローラ21によってほぼ水平に支持された状態で、搬送方向TDに沿って揺動させられる。揺動されている基板Sには、上面ノズルNUおよび下面ノズルNLから、上下面に剥離液(処理液)が供給される。ただし、基板Sの下面側については、基板Sが揺動する揺動範囲A内において、常に基板Sのいずれかの箇所が存在している常時存在領域Aaにおいてのみ、剥離液の供給が行われる。すなわち、揺動範囲A内において、常時存在領域Aa以外の領域は、下面不処理領域とされている。【効果】ノズル数が少ないので、大きな送液能力のポンプが不要である。したがって、ポンプにおける発熱に起因する剥離液の不所望な昇温は生じない。

請求項（抜粋）：

基板をほぼ水平に支持し、この基板の上面に沿う所定の揺動方向に沿って基板を揺動させる揺動手段と、この揺動手段によって揺動させられている基板の上面に処理液を供給する上面処理液供給手段と、上記揺動手段によって揺動されている基板の揺動範囲内において上記揺動手段によって揺動される基板が常に存在している常時存在領域において上記基板の下面に処理液を供給する下面処理液供給手段とを含み、上記揺動範囲内において上記常時存在領域以外の領域を、上記基板の下面への処理液の供給がされない下面不処理領域としたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (5件)：

G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , G09F 9/30 , H01L 21/027 , G03F 7/30 501

FI (5件)：

G02F 1/13 101 , G02F 1/1333 500 , G09F 9/30 C , G03F 7/30 501 , H01L 21/30 572 B

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