特許
J-GLOBAL ID：200903083403370299
化合物、酸発生剤、レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2008-074467
公開番号（公開出願番号）：特開2009-151259
出願日： 2008年03月21日
公開日（公表日）： 2009年07月09日
要約：
【課題】レジスト組成物用酸発生剤として好適な化合物、該化合物からなる酸発生剤、該酸発生剤を含有するレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法の提供。【解決手段】下記一般式(b1-8)で表される化合物。酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、酸発生剤成分(B)は下記一般式(b1-8)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含む。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解性が変化する基材成分(A)および露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)を含有するレジスト組成物であって、
前記酸発生剤成分(B)は、下記一般式(b1-8)で表される化合物からなる酸発生剤(B1)を含むことを特徴とするレジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/004
, C07D 333/76
, G03F 7/039
, H01L 21/027
, C09K 3/00
G03F7/004 503A
, C07D333/76
, G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
, C09K3/00 K
2H025AA02
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC05
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE07
, 2H025BF02
, 2H025BF11
, 2H025CC20
, 2H025FA10
, 2H025FA12
, 2H025FA17
