特許

J-GLOBAL ID：200903083404083412

露光装置、露光方法、デバイス製造方法及びデバイス

発明者： 河野 道生
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-151644
公開番号（公開出願番号）：特開2003-347194
出願日： 2002年05月24日
公開日（公表日）： 2003年12月05日
要約：

【要約】【課題】 分室間の差圧変化等の環境変化が起きても光学性能を劣化させることなく露光を継続し、スループットに優れた露光装置、露光方法、デバイス製造方法及びデバイスを提供する。【解決手段】 光源から発せられた光束を、連続する複数の分室で隔離された光学系を介して被処理体に照射して当該被処理体を露光する露光装置であって、前記光束の光路上に設けられ、前記分室を画定する隔壁の一部を形成する光学部材と、前記分室間の圧力差から生じる前記光学部材の変形に起因する光学性能の変化を補正する補正手段とを有する露光装置を提供する。

請求項（抜粋）：

光源から発せられた光束を、連続する複数の分室で隔離された光学系を介して被処理体に照射して当該被処理体を露光する露光装置であって、前記光学系は、前記分室を画定する隔壁の一部を形成する光学部材を有し前記分室間の圧力差から生じる前記光学部材の変形に起因する光学性能の変化を補正する補正手段とを有する露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (5件)：

G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 516 A ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 F ,  H01L 21/30 518

Fターム (13件)：

5F046AA22 ,  5F046BA05 ,  5F046CA08 ,  5F046CB12 ,  5F046CB19 ,  5F046CB20 ,  5F046CB23 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DA27 ,  5F046DB03 ,  5F046DC07 ,  5F046DD06