特許

J-GLOBAL ID：200903083408366656

塗膜形成用抗菌防黴処理液

発明者： 谷口 秀樹 ,  東 彰子 ,  本田 常俊 ,  西原 明
出願人/特許権者： 三菱マテリアル株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-313867
公開番号（公開出願番号）：特開平7-165516
出願日： 1993年12月14日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：

【要約】【目的】 長期に渡って抗菌防黴作用を発揮する抗菌防黴処理液を提供する。【構成】 抗菌防黴処理液が、溶媒に、何れも全体に占める割合で0.1〜30重量%の一般式M(OC2H5)nおよびM(isoOC3H7)n(ただしMはSi、Ti、Al、Zrの何れかを表し、nは3〜4を表す)で表される金属アルコキシドのうちの少なくとも一種と、同じく0.001〜30重量%のクロロヘキシジンおよびその塩、並びにクロロヘキシジンのCF3誘導体およびその塩から成るクロロヘキシジン化合物のうち少なくとも一種を溶解したものから成る。

請求項（抜粋）：

溶媒に、何れも全体に占める割合で0.1〜30重量%の一般式M(OC2H5)nおよびM(isoOC3H7)n(ただしMはSi、Ti、Al、Zrの何れかを表し、nは3〜4を表す)で表される金属アルコキシドのうちの少なくとも一種と、同じく0.001〜30重量%のクロロヘキシジンおよびその塩、並びにクロロヘキシジンのCF3誘導体、および、その塩から成るクロロヘキシジン化合物のうち少なくとも一種を溶解して成る塗膜形成用抗菌防黴処理液。

IPC (3件)：

A01N 55/00 ,  A01N 47/44 ,  C09D 5/14 PQM

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平4-117311
  
• 特開平4-021615
  
• 特開平1-223175