特許

J-GLOBAL ID：200903083434847921

グロー放電プラズマ処理装置

発明者： 高妻 誠
出願人/特許権者： 積水化学工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-342070
公開番号（公開出願番号）：特開2003-142298
出願日： 2001年11月07日
公開日（公表日）： 2003年05月16日
要約：

【要約】【課題】 大気圧近傍の圧力下の常圧プラズマ処理装置において、簡便な装置で、使用ガスの周囲への拡散防止や外部空気の混入防止が可能なグロー放電プラズマ処理装置の提供。【解決手段】 大気圧近傍の圧力下で、少なくとも一方が固体誘電体で被覆された一対の電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導入して、発生するグロー放電プラズマで被処理基材を処理する放電プラズマ処理装置であって、放電プラズマ発生部と被処理基材とを収納するチャンバー1と、チャンバー1を収納するチャンバー2の少なくとも2室を有し、該チャンバー2内の気圧がチャンバー1内の気圧より低圧で、かつ外気圧より低圧にされた結果、チャンバー1から処理ガスの流出がなされ、かつ、チャンバー2内部へ外気が流入するようになされたことを特徴とするグロー放電プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

大気圧近傍の圧力下で、少なくとも一方が固体誘電体で被覆された一対の電極間に電界を印加し、電極間に処理ガスを導入して、発生するグロー放電プラズマで被処理基材を処理する放電プラズマ処理装置であって、放電プラズマ発生部と被処理基材とを収納するチャンバー1と、チャンバー1を収納するチャンバー2の少なくとも2室を有し、該チャンバー2内の気圧がチャンバー1内の気圧より低圧で、かつ外気圧より低圧にされた結果、チャンバー1から処理ガスの流出がなされ、かつ、チャンバー2内部へ外気が流入するようになされたことを特徴とするグロー放電プラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H05H 1/46 ,  H01L 21/3065

FI (3件)：

H05H 1/46 M ,  H01L 21/302 B ,  H01L 21/302 H

Fターム (15件)：

5F004AA13 ,  5F004AA16 ,  5F004BA20 ,  5F004BB12 ,  5F004BB13 ,  5F004BB14 ,  5F004BB24 ,  5F004BB28 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004DA00 ,  5F004DA23 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB26