特許

J-GLOBAL ID：200903083438913198

ポジ型レジスト組成物

発明者： 富岡 淳 ,  上谷 保則 ,  中西 弘俊 ,  桑名 耕治
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-022772
公開番号（公開出願番号）：特開平6-236030
出願日： 1993年02月10日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：

【要約】【目的】 感度、解像度、プロファイル等の諸性能のバランスに優れ、且つスカムのないポジ型レジスト組成物を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、及び下記一般式(I)で示されるフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルの1種又は2種以上を含有するポジ型レジスト組成物。【化1】〔式中、Y1 、Y2 、Z1 、Z2 、Z3 、Z4 、Z5 、Z6 、及びZ7 はそれぞれハロゲン原子で置換されていてもよいC1 〜C4 のアルキル基、水素原子又は-OH基を表し、Y1 、Y2 のうち少なくとも1つは-OH基であり、Z1 、Z2 、Z3 、Z4 、Z5 、Z6 、Z7 のうち少なくとも2つは-OH基である。また、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 およびR6 は水素原子、C1 〜C10のアルキル基、C2 〜C4 のアルケニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。〕

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、及び下記一般式(I)【化1】〔式中、Y1 、Y2 、Z1 、Z2 、Z3 、Z4 、Z5 、Z6 及びZ7 はそれぞれハロゲン原子で置換されていてもよいC1 〜C4 のアルキル基、水素原子又は-OH基を表し、Y1 、Y2 のうち少なくとも1つは-OH基であり、Z1 、Z2、Z3 、Z4 、Z5 、Z6 、Z7 のうち少なくとも2つは-OH基である。R1、R2 、R3 、R4 、R5 およびR6 はそれぞれ水素原子、C1 〜C10のアルキル基、C2 〜C4 のアルケニル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。)で示されるフェノール化合物のキノンジアジドスルホン酸エステルの1種又は2種以上を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開昭49-117758