特許

J-GLOBAL ID：200903083471040140

露光装置および露光方法、並びに光学装置

発明者： 鈴木 健司
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-022829
公開番号（公開出願番号）：特開2000-306826
出願日： 2000年01月31日
公開日（公表日）： 2000年11月02日
要約：

【要約】【課題】 短波長の露光光を用いて、高い透過率で高い解像力を得ることのできる露光装置。【解決手段】 パターンが形成されたマスク(3)を所定の照明光で照明する照明系(1、2)と、マスクのパターン像を感光性基板(7)上に形成するために複数の屈折光学素子を有する投影光学系(6)と、投影光学系を構成する複数の屈折光学素子のうちの少なくとも一部の屈折光学素子の照明光に対する透過率を実質的に増大させるために、少なくとも一部の屈折光学素子を所定の温度に冷却する冷却手段とを備えている。

請求項（抜粋）：

パターンが形成されたマスクを所定の照明光で照明する照明系と、前記マスクからの光に基づいて前記マスクのパターン像を感光性基板上に形成するために複数の屈折光学素子を有する投影光学系とを備えた露光装置において、前記投影光学系を構成する前記複数の屈折光学素子のうちの少なくとも一部の屈折光学素子の前記照明光に対する透過率を実質的に増大させるために、前記少なくとも一部の屈折光学素子を所定の温度に冷却する冷却手段を備えていることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 521

FI (4件)：

H01L 21/30 516 E ,  G02B 1/02 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D