特許
J-GLOBAL ID：200903083479114941
静電吸着装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-061865
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267435
出願日： 1992年03月18日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：
【要約】【目的】プラズマにより処理されるウエハを支持する静電吸着装置において、ゲ-ト酸化膜等の絶縁膜の耐圧劣化を防止するのに好適な装置を提供することにある。【構成】タングステン電極10にSiC焼結体11をろう材により接合して静電吸着装置を構成し、さらに、SiC焼結体11と直流電源12の間に外部可変抵抗13を設け、SiC焼結体11の温度変化による抵抗変化、ウエハ1の抵抗により異なるエッチング処理中にウエハ1を流れる電流を外部可変抵抗13の抵抗値を変化して補正するようにする。または、SiC焼結体11への印加電圧を設定値までリニア-または複数回のステップ状に変化して補正するようにする。【効果】ゲ-ト酸化膜等の絶縁膜に耐圧劣化を生じることなく処理できる。
請求項（抜粋）：
プラズマにより処理されるウエハを絶縁膜との間に発生させた静電吸着力により支持する静電吸着装置において、前記絶縁膜を流れる電流を補正するように構成したことを特徴とする静電吸着装置。
引用特許：
前のページに戻る
