特許
J-GLOBAL ID：200903083486420985
不可逆的電気穿孔による組織アブレーション
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
清水 初志
, 新見 浩一
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-547425
公開番号（公開出願番号）：特表2007-516792
出願日： 2004年12月21日
公開日（公表日）： 2007年06月28日
要約：
癌性の細胞または非癌性腫瘍のような望ましくない組織のアブレーションのための新規方法を開示する。これは、望ましくない組織の近傍へのまたはその近くへの電極の配置から、望ましくない組織の全域にわたる細胞の不可逆的電気穿孔を引き起こす電気パルスの印加までを伴う。電気パルスは、細胞膜を不可逆的に透過性とし、これにより細胞死を惹起する。不可逆的に透過性とされた細胞は本来の位置に残存し、生体の免疫系により除去される。熱的損傷を誘導することのない不可逆的電気穿孔の使用を通じて実現可能な組織アブレーションの量は多量である。
請求項（抜粋）：
組織をアブレーションする方法であって:
(a)アブレーションする組織を同定する工程;
(b)第一の電極および第二の電極を、同定された組織が第一および第二の電極間に位置するように、配置する工程;
(c)第一および第二の電極間に、組織の細胞の不可逆的電気穿孔を誘導するのに充分な量の電気パルスを印加する工程;
(d)不可逆的に電気穿孔された細胞を、その組織で構成された生物の内部システムにより除去させる工程
を含む方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (6件)：
4C053JJ02
, 4C053JJ03
, 4C053JJ04
, 4C053JJ21
, 4C060KK47
, 4C060MM24
