特許
J-GLOBAL ID:200903083496489428
射出成形装置と、射出条件設定方法と、射出成形方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
,
代理人 (1件):
特許業務法人快友国際特許事務所
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-117696
公開番号(公開出願番号):特開2005-297384
出願日: 2004年04月13日
公開日(公表日): 2005年10月27日
要約:
【課題】 成形型のキャビティ内の圧力を低くする技術を提供する。【解決手段】 射出成形装置10は、成形型12内のキャビティ24に溶融した成形材を射出する複数の射出ノズル20、21、22、23と、各射出ノズルに各射出ノズルから射出される成形材の射出率を指令する制御手段とを備えている。その制御手段は、射出ノズル20、21、22、23毎に、射出開始からの経過時間に対応した射出率を記憶している記憶装置を備えており、その記憶装置に記憶されている射出率は、各射出ノズルの射出圧力を等しくする関係に設定されている。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
成形型内のキャビティに溶融した成形材を射出する複数の射出ノズルと、
各射出ノズルに各射出ノズルから射出される成形材の射出率を指令する制御手段とを備え、
その制御手段は、射出ノズル毎に、射出開始からの経過時間に対応した射出率を記憶している記憶装置を備えており、
その記憶装置に記憶されている射出率は、各射出ノズルの射出圧力を等しくする関係に設定されていることを特徴とする射出成形装置。
IPC (3件):
B29C45/27
, B29C45/20
, B29C45/77
FI (3件):
B29C45/27
, B29C45/20
, B29C45/77
Fターム (27件):
4F202AM23
, 4F202AR02
, 4F202AR08
, 4F202AR11
, 4F202AR14
, 4F202CA11
, 4F202CB01
, 4F202CD28
, 4F202CK06
, 4F202CK15
, 4F202CK89
, 4F206AM23
, 4F206AR024
, 4F206AR084
, 4F206AR11
, 4F206AR14
, 4F206JA07
, 4F206JD03
, 4F206JL09
, 4F206JM04
, 4F206JM05
, 4F206JN13
, 4F206JN14
, 4F206JP17
, 4F206JP23
, 4F206JP30
, 4F206JQ81
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