特許
J-GLOBAL ID：200903083512134155
磁気ディスク基盤及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-233330
公開番号（公開出願番号）：特開平10-079121
出願日： 1996年09月03日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：
【要約】【課題】 磁気ディスク装置の磁気ヘッドの低浮上を可能にし、磁気ディスクの大容量化を図るとともに、大量の磁気ディスク基盤を安価に製造する磁気ディスク基盤、その製造方法及び磁気ディスクを提供する。【解決手段】 研磨したガラス原盤1上にフォトレジストを塗布してフォトレジスト層2を形成する工程と、このフォトレジスト層2上に金属を析出させて金属板4を形成し、上記フォトレジスト層2の表面性をこの金属板表面に転写する工程と、上記金属板4を金型として磁気ディスク基盤となるプラスチック基板6を成形し、金属板4の表面性を転写する工程とを有する。
請求項（抜粋）：
研磨したガラス原盤上に塗布されたフォトレジストの表面に金属を析出させてなる金属板からなる金型により成形され、平均表面粗度(Ra)が1nm以下であることを特徴とする磁気ディスク基盤。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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