特許
J-GLOBAL ID：200903083529750259
四酸化三コバルトの製造方法及びコバルト酸リチウムの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-162726
公開番号（公開出願番号）：特開2004-010375
出願日： 2002年06月04日
公開日（公表日）： 2004年01月15日
要約：
【目的】特にリチウム二次電池の正極活物質として用いるコバルト酸リチウム、特に平均粒径が10μm以上のコバルト酸リチウムの製造原料として有用なNa含有量が0.1重量%以下で、且つタップ密度が大きく、粒度分布のシャープな平均粒径が5〜30μmの四酸化三コバルトの製造方法を提供する。【解決手段】下記の(A1)〜(A2)工程を含むことを特徴とする平均粒径が5〜30μmの四酸化三コバルトの製造方法。(A1)工程;硫酸コバルト水溶液に、炭酸水素ナトリウム水溶液を温度50°C以上で添加し、次いで反応液にアルカリを添加して反応系内のpHを8〜12に調製し沈澱物を生成させる工程。(A2)工程;(A1)工程で生成した沈澱物を温度600〜1000°Cで焼成を行って四酸化三コバルトを得る工程。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記の(A1)〜(A2)工程を含むことを特徴とする平均粒径が5〜30μmの四酸化三コバルトの製造方法。
(A1)工程;硫酸コバルト水溶液に、炭酸水素ナトリウム水溶液を温度50°C以上で添加し、次いで反応液にアルカリを添加して反応系内のpHを8〜12に調製し沈澱物を生成させる工程。
(A2)工程;(A1)工程で生成した沈澱物を温度600〜1000°Cで焼成を行って四酸化三コバルトを得る工程。
IPC (3件)：
C01G51/04
, C01G51/00
, H01M4/58
C01G51/04
, C01G51/00 A
, H01M4/58
4G048AA02
, 4G048AA04
, 4G048AB02
, 4G048AB05
, 4G048AB06
, 4G048AB08
, 4G048AC06
, 4G048AD04
, 4G048AE05
, 5H050AA19
, 5H050BA17
, 5H050CA08
, 5H050GA02
, 5H050GA12
, 5H050GA14
