特許
J-GLOBAL ID：200903083530614806
光励起CVD装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西元 勝一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-024301
公開番号（公開出願番号）：特開平5-347253
出願日： 1991年02月19日
公開日（公表日）： 1993年12月27日
要約：
【要約】【目的】 光化学反応を用いて基板上に薄膜を形成する装置において、反応容器内の汚れを反応容器を開放することなく除去できる光励起CVD装置の提供。【構成】 反応ガスを反応容器31内の基板36側に導入する下段のガス供給ノズル39と反応に関与しないガスを光源からの光を透過する光入射窓(図中、基板36の上部に位置する)側に導入する上段のガス供給ノズル39のそれぞれのガス吹き出し口38は焼結多孔体等の多孔質物質からなっている。反応容器31内のガス流路形状は、ガスの流れに乱れが生じないように凹凸を有しない構造となっており、反応容器31の両側面部はプラズマ放電用の電極34が設置され、反応容器31内の汚れをプラズマ放電により除去する。
請求項（抜粋）：
反応性のガスを反応容器内に導入し、光源から照射した光により反応容器内で光化学反応を起こすことによって、基板上に薄膜を形成する光励起CVD装置であって、反応ガスを反応容器内の基板側に導入するガス供給管と反応に関与しないガスを光源からの光を透過する光入射窓側に導入するガス供給管のそれぞれのガス吹き出し口を多数の微細な連通孔を有する耐熱性の多孔質物質によって構成すると共に前記ガス吹き出し口から反応容器内の排気口に至るガス流路形状がガスの流れに乱れを生じる凹凸を有しない平面状又は曲面状に形成され、前記ガス流路の一部がプラズマ放電用の電極で構成されていることを特徴とする光励起CVD装置。
IPC (2件)：
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