特許

J-GLOBAL ID：200903083533719080

ビスフェノールAの製造方法及びビスフェノールAを含むフェノール溶液の晶析生成物から分離された母液の処理方法

発明者： 進藤 昭夫 ,  坂下 幸司 ,  安井 誠 ,  浅岡 佐知夫
出願人/特許権者： 千代田化工建設株式会社
代理人 (1件)： 池浦 敏明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-316351
公開番号（公開出願番号）：特開平5-331088
出願日： 1992年10月30日
公開日（公表日）： 1993年12月14日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 反応系における副生物や不純物の蓄積を効果的に防止し、高純度のビスフェノールAをフェノールとの結晶アダクトとして取得するビスフェノールAの製造方法を提供する。【構成】 アセトンと過剰量のフェノールとを酸触媒の存在下で反応させてビスフェノールAを生成させる方法において、(i)該循環母液の少なくとも一部を蒸留塔に導入し、該蒸留塔に導入した母液の50〜90重量%を留出させてフェノールを含む留出液を得る蒸留工程、(ii)(i)で得られた蒸留塔の塔底液を、塩基性触媒の存在下で200〜350°Cに加熱する加熱工程、(iii)(ii)で得られた生成物を減圧蒸発して、フェノール及びイソプロペニルフェノールを含む留出蒸気を得る減圧回収工程、(iv)(iii)で得られた留出蒸気を、(i)で得られた留出液と接触させて急冷する急冷工程、(v)(iv)で得られた急冷物を反応工程に循環する循環工程、を包含してなるビスフェノールAの製造方法。

請求項（抜粋）：

【請求項1】 アセトンと過剰量のフェノールとを酸触媒の存在下で反応させてビスフェノールAを生成させる反応工程、該反応工程から得られた反応生成物を、アセトンと、水と、フェノールと、ビスフェノールAを含むフェノール溶液とに分離する分離工程、該ビスフェノールAを含むフェノール溶液からビスフェノールAとフェノールとの結晶アダクトを析出させる晶析工程、該晶析工程で得られた晶析生成物から結晶アダクトと母液を分離する晶析生成物分離工程及び該晶析生成物分離工程で得られた母液を前記反応工程へ循環させる循環工程からなるビスフェノールAの製造方法において、(i)該循環母液の少なくとも一部を蒸留塔に導入し、該蒸留塔に導入した母液の50〜90重量%を留出させてフェノールを含む留出液を得る蒸留工程、(ii)該蒸留工程(i)で得られた蒸留塔の塔底液を、塩基性触媒の存在下で200〜350°Cに加熱する加熱工程、(iii)該加熱工程(ii)で得られた生成物を減圧蒸発して、フェノール及びイソプロペニルフェノールを含む留出蒸気を得る減圧回収工程、(iv)該減圧回収工程(iii)で得られた留出蒸気を、蒸留工程(i)で得られた留出液と接触させて急冷する急冷工程、(v)該急冷工程(iv)で得られた急冷物を反応工程に循環する循環工程、を包含することを特徴とするビスフェノールAの製造方法。

IPC (5件)：

C07C 39/16 ,  B01J 23/04 ,  B01J 31/10 ,  C07C 37/84 ,  C07B 61/00 300