特許
J-GLOBAL ID:200903083535394634

平面TEM試料作成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 吉田 茂明 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-141710
公開番号(公開出願番号):特開平8-003768
出願日: 1994年06月23日
公開日(公表日): 1996年01月09日
要約:
【要約】【目的】 平面TEM観察において特定部位の観察を可能にする。【構成】 まず、試料51の表面に観察対象部位1を表示するマーキング2、3を施す。つぎに、観察対象部位1の付近が最も薄く(10μm以下に)なるように試料51の裏面をディンプル状に研磨する。つぎに、試料51にダイシング加工を施すことにより、観察対象部位1からの距離Xが10μm〜20μm程度となるような縁面54を形成する。最後に、FIB(集束イオンビーム)を縁面54側から試料51の表面に沿って選択的に入射することによって、観察対象部位1の近傍を最終的に(0.1μm〜0.2μm程度に)薄膜化する。【効果】 あらかじめ特定された部位の平面TEM観察が可能である。
請求項(抜粋):
(a) 平板状の試料に切断加工を施すことによって、前記試料における主面の輪郭の一部をなす縁面を、観察対象部位に近接して形成する工程と、(b) 当該縁面側から前記試料の主面に沿って集束イオンビームを選択的に入射することによって、当該試料を選択的にエッチングし、その結果、前記観察対象部位を含む前記試料中の領域を薄膜化する工程と、を備えることを特徴とする平面TEM試料作成方法。
IPC (2件):
C23F 4/00 ,  H01L 21/66

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