特許

J-GLOBAL ID：200903083535711230

プラズマ気相成長装置

発明者： 木下 孝幸
出願人/特許権者： 山口日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-144144
公開番号（公開出願番号）：特開平7-006961
出願日： 1993年06月16日
公開日（公表日）： 1995年01月10日
要約：

【要約】【目的】成長ガスを整流板と上部電極を通してウェハー上で反応させ膜成長を行う場合にウェハー上へのガス供給量が面内で不均一になるのを防ぐ。【構成】整流板8上に、リング9や円板10を乗せる。これにより、反応室内においてガス導入部2より導入された成長ガスが整流板8のガス放出穴を通る際に、整流板8面内においてガス供給量が不均一になるのを防ぎ、ウェハー面内の膜厚均一性が悪化するのを防ぐ。

請求項（抜粋）：

反応室内上下電極間にプラズマを発生させ、上部より反応ガスを供給し電極間に置いたウェハー表面に酸化膜などを気相成長させるプラズマ気相成長装置において供給ガスのフローを電極板上部に設置したガス放出板(以下、整流板とする)により制御することを特徴とするプラズマ気相成長装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/50

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開平2-185978
  
• 特開平1-156477
  
• 特開平2-260632
  
• 特開平4-037124