特許
J-GLOBAL ID：200903083539840817
プラズマ発生装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-067837
公開番号（公開出願番号）：特開平6-283468
出願日： 1993年03月26日
公開日（公表日）： 1994年10月07日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、高真空のもとで高密度プラズマを発生し、均一性が良く、大型化の容易な、加工物への損傷の少ないプラズマ発生装置を提供する。【構成】 プラズマ発生する真空室1と、前記真空室1側壁にほぼ回転対称に設置されたアスペクト比0.5以上の溝7を備え、プラズマ密度を増加せしめたプラズマ発生装置である。この溝7部分で高密度のプラズマが発生する。これは実験的に得られた結果であるが、いわゆるホローカソード放電と同様の原理すなわちプラズマの局所的な閉じ込め作用によるものと考えられる。局所的なプラズマ密度はこのような作用の無い場合に比べ2倍以上になる。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生する真空室と、前記真空室側壁にほぼ回転対称に設置されたアスペクト比0.5以上の孔または溝を備えたことを特徴とするプラズマ発生装置。
IPC (2件)：
H01L 21/302
, H01L 21/205
