特許

J-GLOBAL ID：200903083544672604

薄板保持装置

発明者： 佐藤 修三 ,  大鳥居 英
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 尾川 秀昭
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-230735
公開番号（公開出願番号）：特開平10-076439
出願日： 1996年08月30日
公開日（公表日）： 1998年03月24日
要約：

【要約】【課題】 半導体ウェハ1の表面の面内の高さの均一性を高める。【解決手段】 複数のブロック状真空吸着ステージ3を弾性のあるステージベース4上に配設したチャックテーブル2と、上記各真空吸着ステージ3に対応して設けられ、互いに独立して上下動して上記ステージベース3を裏面から押す複数の微少変位調整ユニット13を微少変位調整ベース12上に配設した微少変位調整テーブル11と、を有する。

請求項（抜粋）：

複数のブロック状の真空吸着ステージを弾性のあるステージベース上に配設したチャックテーブルと、上記各真空吸着ステージに対応して設けられ、互いに独立して高さを変化せしめられて上記ステージベースを裏面から押す複数の微少変位調整ユニットを微少変位調整ベース上に配設した微少変位調整テーブルと、を有することを特徴とする薄板保持装置

IPC (3件)：

B23Q 3/08 ,  H01L 21/304 321 ,  H01L 21/68

FI (3件)：

B23Q 3/08 A ,  H01L 21/304 321 H ,  H01L 21/68 P