特許

J-GLOBAL ID：200903083548840277

マスク欠陥検査装置及びマスク欠陥検査方法

発明者： 石川 喜一
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-005276
公開番号（公開出願番号）：特開2004-219597
出願日： 2003年01月14日
公開日（公表日）： 2004年08月05日
要約：

【課題】マスク内に形成された各種のパターンの欠陥を高感度に検出することができるマスク欠陥検査装置を提供する。【解決手段】本発明のマスク欠陥検査装置は、被検査マスク2を透過したマスクイメージを取得する光電変換素子6と、取得したマスクイメージに対応する多階調のマスクイメージデータを生成するA/D変換回路7と、被検査マスクに対応する2階調のマスク設計データを多階調化してマスク基準データを生成する多階調生成部8と、A/D変換回路7で生成したマスクイメージデータから、予め決められた所定の階調値部分を結ぶ線をパターン輪郭線として抽出するとともに、多階調生成部8で生成したマスク基準データから、所定の階調値部分を結ぶ線をパターン輪郭線として抽出し、かつそれらのパターン輪郭線の長さの比較結果に基づいて被検査マスク2の欠陥検出を行う比較回路9とを備える。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

被検査マスクを透過したマスクイメージを取得して多階調のマスクイメージデータを生成する第1の生成手段と、 前記被検査マスクに対応する2階調のマスク設計データを多階調化してマスク基準データを生成する第2の生成手段と、 前記第1の生成手段で生成した前記マスクイメージデータから、予め決められた所定の階調値部分を結ぶ線をパターン輪郭線として抽出する第1の抽出手段と、 前記第2の生成手段で生成した前記マスク基準データから、前記所定の階調値部分を結ぶ線をパターン輪郭線として抽出する第2の抽出手段と、 前記第1の抽出手段で抽出した前記パターン輪郭線の長さと前記第2の抽出手段で抽出した前記パターン輪郭線の長さとを比較し、この比較結果に基づいて前記被検査マスクの欠陥検出を行う欠陥検出手段と を備えることを特徴とするマスク欠陥検査装置。

IPC (3件)：

G03F1/08 ,  G01B11/30 ,  G01N21/956

FI (3件)：

G03F1/08 S ,  G01B11/30 A ,  G01N21/956 A

Fターム (26件)：

2F065AA21 ,  2F065AA49 ,  2F065AA51 ,  2F065CC18 ,  2F065GG22 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065PP22 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ27 ,  2F065QQ31 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC21 ,  2G051BA05 ,  2G051CA04 ,  2G051CB02 ,  2G051EA11 ,  2G051EA16 ,  2G051EB09 ,  2G051ED14 ,  2H095BD02 ,  2H095BD03 ,  2H095BD24 ,  2H095BD28