特許
J-GLOBAL ID：200903083552456279
粒子画像分析方法、プログラム、記録媒体及び粒子画像分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-026476
公開番号（公開出願番号）：特開2004-239645
出願日： 2003年02月03日
公開日（公表日）： 2004年08月26日
要約：
【課題】円形度が高い領域に存在する粒子に対して取り扱いやすい数値の形状値を出力し、円形度が高い領域に存在する粒子の形状に関しての定量的な品質管理を容易に行うことができるようにする。【解決部】撮像された各粒子像から少なくとも一つの特徴パラメータを算出し、その特徴パラメータによる分布データを作成するにあたって、特徴パラメータとして少なくとも-1/log(円形度)(円形度=(粒子像と同じ投影面積値を持つ円の周囲長)/(粒子投影像の周囲長))を算出することを特徴とする粒子画像分析方法、プログラム、記録媒体及び粒子画像分析装置に関する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
撮像された各粒子像から少なくとも一つの特徴パラメータを算出し、その特徴パラメータによる分布データを作成する粒子画像分析方法において、特徴パラメータとして少なくとも-1/log(円形度)(但し、円形度=(粒子像と同じ投影面積値を持つ円の周囲長)/(粒子投影像の周囲長))を算出することを特徴とする粒子画像分析方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
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