成膜装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：鈴木正次 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-386006
公開番号（公開出願番号）：特開2002-180248
出願日： 2000年12月19日
公開日（公表日）： 2002年06月26日
要約：

【要約】【課題】成膜装置内の基板に堆積した薄膜をin-situでモニターして、プロセス中の膜堆積速度を正確に管理し、製品不良を最小限に抑えることのできる成膜装置を提供する。【解決手段】真空容器中に放電用ガスを導入すると共に、当該真空容器内の電極に成膜用の電源から電圧を印加して、当該真空容器内に配置されている基板に薄膜を堆積させる成膜装置であって、前記基板と同等の垂直方向位置に複数個の水晶式膜堆積速度モニターが配置されていて、当該複数個の水晶式膜堆積速度モニター中、少なくとも一個の水晶式膜堆積速度モニターはそのモニター表面に、薄膜の堆積を防止するシールドを備え、他は前記シールドをそのモニター表面に備えていない水晶式膜堆積速度モニターとされ、成膜処理の間に、後者の水晶式膜堆積速度モニターから得られる信号を、前者の水晶式膜堆積速度モニターから得られる信号で補正し、当該補正して得られた信号に基づいて、前記成膜用の電源から真空容器内の電極に印加する電圧のフィードバック制御が行われることを特徴とする成膜装置によって課題を解決した。

請求項（抜粋）：

真空容器中に放電用ガスを導入すると共に、当該真空容器内の電極に成膜用の電源から電圧を印加して、当該真空容器内に配置されている基板に薄膜を堆積させる成膜装置であって、前記基板と同等の垂直方向位置に複数個の水晶式膜堆積速度モニターが配置されていて、当該複数個の水晶式膜堆積速度モニター中、少なくとも一個の水晶式膜堆積速度モニターはそのモニター表面に、薄膜の堆積を防止するシールドを備え、他は前記シールドをそのモニター表面に備えていない水晶式膜堆積速度モニターとされており、成膜処理の間に、前記シールドをそのモニター表面に備えていない水晶式膜堆積速度モニターから得られる信号を、前記シールドをそのモニター表面に備えている水晶式膜堆積速度モニターから得られる信号で補正し、当該補正して得られた信号に基づいて、前記成膜用の電源から真空容器内の電極に印加する電圧のフィードバック制御がなされることを特徴とする成膜装置。

Fターム (6件)：

4K029CA05 , 4K029DA10 , 4K029DC34 , 4K029EA01 , 4K029EA02 , 4K029EA09

引用特許：

出願人引用 (3件)

特開平3-243766
特開昭63-128172
特開昭63-000469

審査官引用 (3件)

特開平3-243766
特開昭63-128172
特開昭63-000469

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