特許

J-GLOBAL ID：200903083582823586

回折型光学素子の製造方法

発明者： 御菩薩池 茂男
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 永井 冬紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-056138
公開番号（公開出願番号）：特開平9-243812
出願日： 1996年03月13日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【課題】 レジストパターン形成の途中でパターンの良否判定を行うこと。【解決手段】 レジストパターンが形成された基板をエッチング加工処理して基板に溝を形成する回折型光学素子の製造方法において、第1工程で基板表面をレジストで被覆し、続く第2工程でそのレジストを切削加工してレジストパターンを順次に形成する。そのため、第2工程において、切削加工されたレジストパターンを随時測定することができる。

請求項（抜粋）：

レジストパターンが形成された基板をエッチング加工処理して前記基板に溝を形成する回折型光学素子の製造方法において、基板表面をレジストで被覆し、そのレジストを切削加工して前記レジストパターンを形成することを特徴とする回折型光学素子の製造方法。