特許

J-GLOBAL ID：200903083586572944

電子ビーム近接露光用マスクの製作方法及びマスク

発明者： 島津 信生 ,  内海 孝雄
出願人/特許権者： 株式会社リープル
代理人 (1件)： 松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-371186
公開番号（公開出願番号）：特開2002-217100
出願日： 2001年12月05日
公開日（公表日）： 2002年08月02日
要約：

【要約】【課題】 低コストで電子ビーム近接露光用のマスクを製作する方法を実現する。【解決手段】 平行な電子ビーム15を出射する電子ビーム源14と、電子ビーム15の経路中に配置され、開口を有するマスク30と、試料40を保持して移動するステージとを備え、マスク30は試料40の表面に近接して配置され、マスク30の開口を通過した電子ビーム15で、試料40の表面に開口に対応するパターンを露光する電子ビーム近接露光装置で使用されるマスクの製作方法であって、マスク30を複数の部分領域A〜Pに分割し、複数の部分領域A〜Pと同一パターンの開口をそれぞれ有する複数の部分マスク111を製作する工程と、電子ビーム近接露光方法で、複数の部分マスク111のパターンを、マスク基板31の対応する位置にそれぞれ露光してマスク30を製作する工程と、を備える。

請求項（抜粋）：

平行な電子ビームを出射する電子ビーム源と、前記電子ビームの経路中に配置され、開口を有するマスクと、試料を保持して移動するステージとを備え、前記マスクは前記試料の表面に近接して配置され、前記マスクの開口を通過した電子ビームで、前記試料の表面に前記開口に対応するパターンを露光する電子ビーム近接露光装置で使用される前記マスクの製作方法であって、前記マスクを複数の部分領域に分割し、前記複数の部分領域と同一パターンの開口をそれぞれ有する複数の部分マスクを製作する工程と、電子ビーム近接露光方法で、前記複数の部分マスクのパターンを、マスク基板の対応する位置にそれぞれ露光して前記マスクを製作する工程と、を備えることを特徴とする電子ビーム近接露光用マスクの製作方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 1/16

FI (6件)：

G03F 1/08 N ,  G03F 1/08 S ,  G03F 1/08 T ,  G03F 1/16 B ,  H01L 21/30 541 S ,  H01L 21/30 541 D

Fターム (9件)：

2H095BA03 ,  2H095BA09 ,  2H095BD02 ,  2H095BD31 ,  2H095BE03 ,  5F056AA25 ,  5F056CB14 ,  5F056CC11 ,  5F056FA05