特許

J-GLOBAL ID：200903083589404074

炭素化合物及びその製造方法

発明者： 水島 公一
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-225290
公開番号（公開出願番号）：特開平7-081914
出願日： 1993年09月10日
公開日（公表日）： 1995年03月28日
要約：

【要約】【構成】 HOPGグラファイトとBiK合金とをパイレックス管で真空加熱して、Bi0.6 KCX を合成する。このBi0.6 KCX を真空中で加熱処理を施し、Kを除去してBi0.6 C8 を合成する。この化合物はBiが層間にインターカレートされたグラファイト構造を有する炭素化合物であり、室温でも十分安定であった。例えばLiイオン二次電池用の陰極材料として好適である。【効果】 層間の結合が強固で安定なグラファイト構造を有する炭素化合物を提供することができる。

請求項（抜粋）：

グラファイト構造を含む炭素化合物において、アルカリ金属と化合物を形成する元素のうち、アルカリ金属より蒸気圧が低い若しく電解質中のイオン易動度がアルカリ金属より低い元素がインターカレートされていることを特徴とする炭素化合物。

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開昭57-047883
  
• 特開平4-170310
  
• 特開平3-153511
  

審査官引用 (1件)

• 特開昭57-047883