特許

J-GLOBAL ID：200903083591508120

光学素子成形用型及びその製造方法

発明者： 平林 敬二 ,  大森 正樹
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 山下 穣平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-000717
公開番号（公開出願番号）：特開平9-188536
出願日： 1996年01月08日
公開日（公表日）： 1997年07月22日
要約：

【要約】【課題】 低コストで、膜の劣化や成形ガラスの表面粗さの劣化を生じない光学素子成形用型の製造方法、及び該方法により製造された光学素子成形用型を提供する。【解決手段】 ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型の製造方法において、該型母材の少なくとも成形面表面に、加速エネルギーが、5KeV以上のイオンビーム蒸着法を用いて窒化ホウ素膜を形成し、次いで該窒化ホウ素膜表面に、加速エネルギーが、5KeV以上のイオンビーム蒸着法を用いて硬質炭素膜を形成することによる光学素子成形用型の製造方法、及び該方法により製造された光学素子成形用型。

請求項（抜粋）：

ガラスよりなる光学素子のプレス成形に用いる光学素子成形用型の製造方法において、該型母材の少なくとも成形面表面に、加速エネルギーが、5KeV以上のイオンビーム蒸着法を用いて窒化ホウ素膜を形成し、次いで該窒化ホウ素膜表面に、加速エネルギーが、5KeV以上のイオンビーム蒸着法を用いて硬質炭素膜を形成することを特徴とする光学素子成形用型の製造方法。

IPC (6件)：

C03B 40/00 ,  C03B 11/00 ,  C03B 11/08 ,  C23C 14/06 ,  C23C 14/30 ,  C23C 14/48

FI (6件)：

C03B 40/00 ,  C03B 11/00 N ,  C03B 11/08 ,  C23C 14/06 P ,  C23C 14/30 Z ,  C23C 14/48 A