特許

J-GLOBAL ID：200903083600473725

X線露光用マスク及びその製造方法

発明者： 伊藤 正光 ,  杉原 真児
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 則近 憲佑
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-065870
公開番号（公開出願番号）：特開平5-267129
出願日： 1992年03月24日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【目的】 X線透過膜を有するX線マスク支持体に補強枠を接着する工程を含むX線マスクの製造方法において、接着剤の体積変化や変形に起因するマスクの歪みを一切伴わず、工程の簡単となるX線マスク製造方法を提供することにある。【構成】 X線マスク支持体に、膜厚が数nm〜数十nmのCr膜を形成し、このCr膜を介して、X線マスク支持体と補強枠を固相接合する。【効果】 接着剤の体積変化や変形に起因するX線マスクの歪み、X線吸収体パターンの位置ずれが解消される。また、このCr膜は、シリコン基板のエッチングの際のマスクとしても用いるため、従来行なってきたように、シリコン基板のエッチング用のマスク層としての、SiC層などの形成工程が省かれ、プロセスが簡単となる。

請求項（抜粋）：

X線吸収体パターンと、これを支持するX線透過膜と、この膜の外周を固定するX線マスク支持体と、この支持体を補強する補強枠と、この補強枠と前記支持体との間に設けられたCrを含む固相接合層とを備えたことを特徴とするX線露光用マスク。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/16