特許
J-GLOBAL ID：200903083613837238
表面清浄度の良好な希土類磁石およびその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
筒井 大和 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-160069
公開番号（公開出願番号）：特開平11-354361
出願日： 1998年06月09日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：
【要約】【課題】 希土類磁石表面の付着粒子の数を低減すること。【解決手段】 希土類磁石の耐蝕性被膜の表面を、モータ等で回転可能に構成したスポンジ20で摺擦する。あるいは、溶存酸素量を飽和溶存酸素量の50%以下に脱気した純水を使用して超音波洗浄する。あるいは、両方法を組み合わせて洗浄する。
請求項（抜粋）：
希土類磁石体の表面を耐蝕性被膜で被覆してなる希土類磁石の表面を摺擦して洗浄することを特徴とする表面清浄度の良好な希土類磁石の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01F 41/02 G
, H01F 1/04 H
